在正在召开的第三届中国国际进口博览会上，全球芯片光刻技术巨头阿斯麦（ASML）针对国人关心的光刻机出口许可问题作出了回应。

ASML全球副总裁、中国区总裁沈波表示，ASML必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口，但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的，我们对全球客户都一视同仁，只要是我们能够提供的技术和设备，我们都会全力支持。

翻译过来的意思是，ASML是十分愿意向中国销售旗下的先进光刻机设备，但前提是在合法合规。实际上，受协议以及禁令制约，ASML目前依然不能向中国出口EUV（极紫外光）光刻机，并且本次参加进博会展示的光刻机都是DUV（深紫外光）光刻机。

光刻机是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。目前，市场上光刻机主要分为两种，一种是DUV光源，另外一种是EUV光源。

DUV理论上基本上只能做到25nm工艺，唯独EUV才能满足10nm以下的芯片制造，并且可向5nm、3nm继续延伸。同时，后者比前者精度更高，高能EUV光源可以更好缩小图案尺寸，一次曝光可以实现芯片制造，大幅提升生产率和良品率。

而良品率、生产率的提升意味着生产成本的降低，同时也意味着设备的价格更高。目前，EUV光刻机售价在9亿元/台左右，而DUV光刻机价格则是在6亿元/台左右。

需要注意的是，即便如此EUV光刻机也是有市无价，因为ASML是目前全球范围里唯一能生产EUV光刻机的公司，并且EUV光刻机的产能还十分有限。据ASML最新公布的数据，其每年只生产20多台EUV光刻机，其中绝大部分产能都是被台积电与三星瓜分。

由于中兴、华为相继被制裁，使得光刻机这一半导体领域十分专业的设备进入了大众视野。尤其是在华为被台积电断供后自研的麒麟9000系列陷入无法生产局面，更让国产半导体企业如何拥有光刻机成为国人茶余饭后的谈资。

从ASML的回应来看，国产半导体企业想要获得最先进光刻机的几率几乎为零，这意味着，在国产光刻机崛起之前，我国半导体业务发展将会由于技术封锁落后海外一个代次。

以国内最大的晶圆代工厂中芯国际为例，其在去年底才开始宣布量产14nm工艺，而7nm工艺尚在规划之中。因此，国产半导体产业想要取得真正意义的发展，还是需要“修炼内功”。

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